Schichtwiderstand
Ein Schichtwiderstand ist eine Bauart eines elektrischen Widerstands in elektronischen Schaltungen, bei dem das Widerstandselement als dünne Schicht auf einem Träger aufgebracht ist. Im Aufbau besteht der Schichtwiderstand aus einem elektrisch nicht leitenden, meist keramischen Kern als Trägermaterial, der mit einer Schicht aus einem Widerstandmaterial und zwei metallenen Anschlüssen versehen ist. Die dünne Schicht erlaubt aufgrund der geringen Querschnittsfläche höhere Widerstandswerte; nochmals höhere Widerstandswerte werden mit Hilfe einer Wendel- oder Mäanderstruktur in der Widerstandsschicht erreicht, die die Querschnittsfläche weiter reduziert und zugleich den Strompfad verlängert. Ein Abgleich des elektrischen Widerstandwertes ist durch Schleifen, Sandstrahlen, Elektronenstrahl- oder Laserabtrag der Widerstandsschicht möglich. Die Schichtwiderstände werden neben ihren elektrischen Eigenschaften nach dem Material der Widerstandsschicht, nach der Herstellungstechnik und der Bauform klassifiziert. Sie sind die am häufigsten genutzte Widerstandsbauart in der Elektronik.
Während bis in die 1970er Jahre Kohleschichtwiderstände als kostengünstigstes Bauelement überwiegten, wurden sie in dieser Rolle durch Dickfilmwiderstände abgelöst,[1] die zudem bessere elektrische Eigenschaften wie Fertigungstoleranz und Temperaturkoeffizient des Widerstandes aufweisen. Für Präzisionsanwendungen eignen sich Metall-Dünnfilmwiderstände; sie können im Vergleich zu Dickschichtwiderständen mit nochmals
- höherer Genauigkeit gefertigt werden, und können eine
- geringere Alterung, ein
- geringeres Strom- bzw. Spannungsrauschen, eine
- geringere Abhängigkeit von Temperatur und anderen Umwelteinflüssen
- aber auch eine geringere Impulsfestigkeit aufweisen.
Übliche Fertigungstoleranzen und Temperaturkoeffizienten sind bei
- Kohleschicht: [2]
- Dickschicht: [3]
- Metallschicht: [2]
Metallschicht bzw. Dünnfilmwiderstände liegen in den Kosten über denen von Dickschichtwiderständen. Beide Bauweisen werden auch in Form eines Widerstandsnetzwerkes angeboten; insbesondere bei ersteren können dabei Toleranz und Temperaturkoeffizient zwischen den Widerständen des Netzwerkes verringert werden.
Die Ausfallrate von Metallschichtwiderständen, insbesondere in Form von Netzwerken, ist nach dem Standard SN29500 geringer als die von Kohleschicht-, Metalloxidschicht- oder Drahtwiderstände; die Ausfallrate liegt je nach Betriebstemperatur bei unter 1 Ausfall in einem Zeitintervall von einer Milliarde Stunden. Hingegen gibt die DIN 44052 für Kohle- und Metallfilmwiderstände eine Ausfallrate von 10^-12h und 10^-8h innerhalb einer Brauchbarkeitsdauer von 130.000 h an.[4]
Bauform
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Nach Bauform unterscheidet man für Leiterplattenmontage zylindrische und flache, quaderförmige Geometrien, jeweils bedrahtet für die Durchsteckmontage oder unbedrahtet für die Oberflächenmontage sowie Bauformen für eine sogenannte Chassismontage. Bauformen für Leitplattenmontage werden in unterschiedlichen Größen im Millimeter- und Zentimeterbereich und dadurch für elektrische Leistungen im oberen Milliwatt- und im Wattbereich angeboten. Die kurzzeitige Belastbarkeit kann insbesondere bei manchen Dickfilm- oder Kohleschichtwiderständen deutlich größer sein, bspw. über ein Kilowatt für eine Millisekunde.[5][6][7] Kohleschicht- und Dünnschichtwiderstände[8] können auch mit Sicherungsfunktion gefertigt werden und unterbrechen dann bei Überlastung den Stromfluss, ohne einen Brand zu verursachen. Filmwiderstände für Chassismontage weisen häufig ein komplexeres Gehäuse auf, über das Wärme an das Chassis abgeführt werden kann; dauerhafte elektrische Leistungen von mehreren hundert Watt sind damit möglich.[9]
Alternativ zu diskreten Bauelementen können Dickschichtwiderstände auch als gedruckte Elemente in Hybridschaltungen eingesetzt werden. Dünnfilmwiderstände werden in ähnlicher Weise in integrierten Schaltungen verwendet.[10] In beiden Fällen ist eine Trimmung des Widerstandwertes mittels Laserschnitt möglich, wie es auch in den beiden nachfolgenden Bilder zu sehen ist. Darüber hinaus können Dünnfilmwiderstände in mehrlagige Leiterplatten integriert werden: Hierfür werden mit einer Widerstandsschicht versehene Kufperfolien angeboten, die als eine Lage der Leiterplatte verbaut und durch selektives Ätzen strukturiert werden. Die Werte des Flächenwiderstands liegen je nach Schichtstärke und -material im Bereich von 10…1000 Ohm/□ mit Widerstandschichtmaterialien NiP, NiCr, NiCrAlSi oder CrSiO. Sie sind mit Zusatzkosten von 0,21 US-Dollar pro Quadratzoll Leiterplattenfläche realisierbar.[11]
-
Hybridschaltung mit gedruckten Schichtwiderständen (schwarz)
-
Ein integrierter Schaltkreis mit Dünnfilmwiderständen (grün)[12]
Widerstandsschicht
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Kohleschichtwiderstand
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Bei Kohleschichtwiderständen wird als Widerstandelement eine polykristallinen Kohlenstoffschicht mit einer Dicke von 10 nm bis 40 µm[2] auf einen kleinen Keramikzylinder durch Pyrolyse aufgebracht. Dafür werden die Keramikträger auf etwa 1000 °C erhitzt und in eine Kohlenwasserstoffatmosphäre wie Methan gebracht, welche sich durch die hohe Temperatur zersetzt und dabei den Kohlenstoff auf dem Keramikträger ablagert. Um den Widerstandswert zu erhöhen, wird anschließen in die Kohlenstoffschicht eine helixförmige Unterbrechung mittels Laser oder Diamantschneider eingebracht,[13] wodurch für den Stromfluss längere Bahnen mit weniger Querschnittsfläche entstehen. Auf die Zylinderenden werden dann metallischen Kappen aufgepresst, welche die Widerstandschicht elektrisch kontaktieren und an denen Anschlussdrähte angeschweißt sind, über die der Widerstand durch eine Lötverbindung sowohl elektrisch mit der Schaltung verbunden als auch mechanisch getragen wird. Zum Schutz gegen Umwelteinflüsse ist der Widerstand meist mit einer Lackschicht versehen.
Kohleschichtwiderstände wurden in den 1920er Jahren von Siemens & Halske entwickelt und ab den 1930er Jahren von mehreren Firmen in Deutschland hergestellt.[14]
Metallglasurwiderstand
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Bei Metallglasurwiderständen wird die Widerstandsschicht mit einer Dicke von etwa 10 µm durch Aufbringen und Brennen einer Glas-Metall-Suspension auf einem Träger bei Temperaturen zwischen 900 °C und 1100 °C hergestellt. Die Widerstandsschicht wird wie bei Kohleschicht- und Metalloxidwiderständen mit einer Helixstruktur versehen; die Enden des Trägers werden vernickelt und mit Anschlussdrähten verlötet.[13]
Metalloxidwiderstand
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Für das Widerstandselement von Metalloxidwiderständen wird häufig Antimon-dotiertes Zinn(IV)-oxid mit einer Schichtdicke von 1 nm bis 100 nm[13] nach anderen Quellen von 1 µm[2] verwendet. In einem Herstellungsverfahren wird das Zinn und das Antimon als Chloridsalz auf einen als Träger fungierenden Glasstab aufgesprüht und bei etwa 1000 °C dann in die Widerstandsschicht umgewandelt. Die Weiterverarbeitung zum Bauelement erfolgt wie bei dem Kohleschichtwiderstand.
Metalloxidwiderstände etablierten sich in den 1950er Jahren als stabilere Alternative gegenüber Kohleschicht- und Metallglasurwiderständen.[15]
Metallschichtwiderstand
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Bei der als Metallschicht-, Metallfilm- oder Dünnfilmwiderstand bezeichneten Bauart[1] wird das Widestandselement als dünne Schicht von meist 10…100 nm Dicke[2] durch Sputtern auf einem Träger aufgebracht. Dünnfilmwiderstände wurden seit den 1950er Jahren entwickelt und setzen meist die Materialkombination Nickel und Chrom oder Tantalnitrid für die Widerstandschicht ein, wobei mit Widerstandsschichten aus Nickel-Chrom die geringere Temperaturabhängigkeit und damit eine kleinere Toleranz erreicht werden kann. Die Strukturierung der Widerstandsschicht kann durch Photolithographie oder Laserablation erfolgen. Zum Schutz vor schädigender Feuchtigkeit werden Widerstandsschichten aus Nickel-Chrom mit mitunter mehreren verschiedenen Schutzschichten versehen oder hermetisch in einem Gehäuse verschlossen, während Widerstandsschichten aus Tantalnitrid eine Schutzschicht aus Tantalpentoxid ausbilden und dadurch eine hohe Beständigkeit gegen Feuchtigkeit aufweisen.[3][15]
Bereits im Jahr 1913 wurden gesputterte Metallschichtwiderstände[16] und 1919 höherohmige spiralförmige Metallfilm-Widerstände erfunden,[17] in den 1940er und 1950er Jahren beispielsweise bei der International Resistance Company (IRC) Nickel-Chrom-[18][15][19][20][21] und bei den Bell Labs Tantalschichten.[22][15]
Dass dünne Metallfilme abweichende, vorteilhafte Widerstandseigenschaften aufweisen im Vergleich zur Berechnung aus dem spezifischen Widerstand des Materials, wurde verschiedentlich untersucht[23] und modelliert. Grundlegende Arbeiten stammen von Fuchs[24] und Sondheimer[25] aus den Jahren 1938 und 1952, die in der Folgezeit weiter verfeinert wurden.[26][27][28]
Dickschichtwiderstand
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Bei einem Dickschichtwiderstand wird die Widerstandschicht als Paste in einem Siebdruckverfahren aufgebracht und dann bei etwa 850 °C[1] zu einer Widerstandsschicht gebrannt.[29] Die Paste beinhaltet Rutheniumdioxid oder ähnliche Materialien zusammen mit Glaspartikel, aus denen die Widerstandschicht mit einer Dicken je nach Quelle von 25 µm oder rund 100 µm hergestellt wird.[3][1]
Die widerstandsbehaftete Stromleitung zwischen den Partikeln kann auf unterschiedlichen physikalischen Effekten beruhen.[30]
Literatur
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Fachbuch
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]- Otto Zinke: Widerstände, Kondensatoren, Spulen und ihre Werkstoffe. Springer Verlag, Berlin 1965, ISBN 3-540-03434-X (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
Normen
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]- Teile der Norm IEC 60115 der International Electrotechnical Commission legen Bau und Prüfungen von Schichtwiderständen fest.[31][32][33][34]
- Teile der europäisch harmonisierten Normen EN 140101[35] und EN 140401,[36][37][38][39] erarbeitet von der Europäisches Komitee für elektrotechnische Normung (CENELEC)
- Die in den 1970er und 1980er Jahren herausgegegebenen und mittlerweile zurückgezogenen Normen des Deutsches Institut für Normung DIN 44050…44055 und DIN 44061…44064 beschreiben Schichtwiderstände allgemein,[40] Kohleschicht-[41][42][43][44] und Kohlegemischschichtwiderstände,[45] Metall-,[46][47] Metalloxid-[48] und Metallglasurschichtwiderstände.[49]
- Eigenschaften von Kohleschicht-, Metallschicht- und Metalloxidwiderstände für die Verwendung im Automotive-Bereich wird in der AEC-Q200 des Automotive Electronics Council beschrieben.[50]
Einzelnachweise
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]- ↑ a b c d https://eepower.com/resistor-guide/resistor-materials/thin-and-thick-film/
- ↑ a b c d e Michael Reisch: Elektronische Bauelemente. 2013, S. 80–81 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
- ↑ a b c https://passive-components.eu/metal-thin-film-foil-thick-film-and-carbon-resistors/
- ↑ http://www.elektronik-kompendium.de/forum/forum_entry.php?id=199734&page=0&category=Elektronik&order=time
- ↑ https://www.viking.com.tw/Templates/att/SWR_Series.pdf
- ↑ https://www.ohmite.com/assets/docs/res_tfss.pdf?r=false
- ↑ https://www.vishay.com/docs/28956/cma0204-cmb0207.pdf
- ↑ https://www.ttelectronics.com/TTElectronics/media/ProductFiles/Datasheet/EMC.pdf
- ↑ https://www.ohmite.com/assets/docs/res_tgh600.pdf?r=false
- ↑ https://www.ti.com/lit/ds/symlink/ina149.pdf
- ↑
https://quanticohmega.com/overview/
https://ticertechnologies.com/products/tcr/ - ↑ https://www.analog.com/media/en/technical-documentation/data-sheets/ad558.pdf
- ↑ a b c F. F. Mazda: Discrete Electronic Components. 1981, S. 55–58 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
- ↑ https://www.google.de/books/edition/Electronic_Inventions_and_Discoveries/PbYgBQAAQBAJ?hl=de&gbpv=1&dq=carbon%20film%20resistor%201930&pg=PA95&printsec=frontcover
- ↑ a b c d Stephen Oxley, TT Electronics UK: Advances in Film Resistor Technology. In: EPCI e-symposium PCNS paper. (passive-components.eu).
- ↑ https://www.google.de/books/edition/Electronic_Inventions_1745_1976/7tsiAAAAMAAJ?hl=de&gbpv=1&bsq=%20sputtered%20metal%20film%20resistor%20swann&dq=1919%20metal%20film%20resistor&printsec=frontcover
- ↑ https://www.google.de/books/edition/Electronic_Inventions_1745_1976/7tsiAAAAMAAJ?hl=de&gbpv=1&bsq=1919%20metal%20film%20resistor&dq=1919%20metal%20film%20resistor&printsec=frontcover
- ↑ https://www.google.de/books/edition/Electronic_Inventions_1745_1976/7tsiAAAAMAAJ?hl=de&gbpv=1&bsq=nickel%20chromium%20film%20resistor&dq=1919%20metal%20film%20resistor&printsec=frontcover
- ↑ R. H. Alderson, F. Ashworth: Vacuum-deposited films of nickel-chromium alloy. In: British Journal of Applied Physics. Band 8, Nr. 5, 1957, S. 205, doi:10.1088/0508-3443/8/5/305.
- ↑ Patent US2935717A: Metal film resistor and method of making the same. Angemeldet am 12. November 1957, veröffentlicht am 3. Mai 1960, Anmelder: International Resistance Company, Erfinder: Solow Benjamin.
- ↑ Patent US2586752A: Alloy resistance element and method for manufacturing same. Angemeldet am 26. September 1946, veröffentlicht am 19. Februar 1952, Anmelder: Polytechnic Institute of NYU, Erfinder: Weber Ernst, Johnson Stanley Adams.
- ↑ https://www.google.de/books/edition/Electronic_Inventions_and_Discoveries/PbYgBQAAQBAJ?hl=de&gbpv=1&bsq=bell%20labs%20tantalum%20film&printsec=frontcover
- ↑ https://apps.dtic.mil/sti/tr/pdf/AD0765534.pdf
- ↑ K. Fuchs: The conductivity of thin metallic films according to the electron theory of metals. In: Mathematical Proceedings of the Cambridge Philosophical Society. Band 34, Nr. 1, 1938, S. 100–108, doi:10.1017/S0305004100019952.
- ↑ E. H. Sondheimer: The mean free path of electrons in metals. In: Advances in Physics. Band 1, Nr. 1, 1952, S. 1–42, doi:10.1080/00018735200101151.
- ↑ Nai-Chuan Chuang, Jyi-Tsong Lin, Kow-Ming Chang, Tsung Ming Tsai: The Film Thickness Effect on Electrical Conduction Mechanisms and Characteristics of the Ni-Cr Thin Film Resistor. In: IEEE Journal of the Electron Devices Society 4(6):1-1. 2016 (researchgate.net).
- ↑ I. M. Pazukha, I. Yu. Protsenko: Theoretical Methods of Investigations of Thin Film Materials Properties. Study guide. Sumy State University, 2017 (archive.org [PDF]).
- ↑ A. Fert: Transport Properties of Thin Metallic Films and Multilayers. In: George C. Hadjipanayis, Gary A. Prinz (Hrsg.): Science and Technology of Nanostructured Magnetic Materials. 1991, S. 221–237 (springer.com).
- ↑ https://www.rohm.de/electronics-basics/resistors/chip-resistor-structure
- ↑ Maria Prudenziati: Electrical Transport in Thick Film (Cermet) Resistors. 1983, doi:10.1155/APEC.10.285.
- ↑ IEC 60115-1:2020 Fixed resistors for use in electronic equipment - Part 1: Generic specification
- ↑ IEC 60115-2:2023 Fixed resistors for use in electronic equipment - Part 2: Sectional specification: Low-power film resistors with leads for through-hole assembly on circuit boards (THT)
- ↑ IEC 60115-2-10:2023 Fixed resistors for use in electronic equipment - Part 2-10: Blank detail specification: Low-power film resistors with leads for through-hole assembly on circuit boards (THT), for general electronic equipment, classification level G
- ↑ IEC 60115-8-1:2014 Fixed resistors for use in electronic equipment – Part 8-1: Blank detail specification: Fixed surface mount (SMD) low power film resistors for general electronic equipment, classification level G.
- ↑ DIN EN 140101-806:2014-09 Bauartspezifikation: Schicht-Festwiderstände niedriger Belastbarkeit - Metallschichtwiderstände auf hochwertiger Keramik, mit konformer Umhüllung und axialen oder vorgeformten Anschlüssen; Deutsche Fassung
- ↑ DIN EN 140401-801:2014-09 Bauartspezifikation: SMD Schicht-Festwiderstände niedriger Belastbarkeit - Rechteckig - Stabilitätsklassen 0,1; 0,25; 0,5; 1; Deutsche Fassung
- ↑ DIN EN 140401-802:2017-09 Bauartspezifikation: SMD Schicht-Festwiderstände niedriger Belastbarkeit - Rechteckig - Stabilitätsklassen 1; 2; Deutsche Fassung
- ↑ DIN EN 140401-803:2017-09 Bauartspezifikation: SMD Schicht-Festwiderstände niedriger Belastbarkeit - Zylindrisch - Stabilitätsklassen 0,05; 0,1; 0,25; 0,5; 1; 2; Deutsche Fassung
- ↑ DIN EN 140401-804:2019-11 Bauartspezifikation: SMD Schicht-Festwiderstände niedriger Belastbarkeit mit hoher Stabilität - Rechteckig - Stabilitätsklassen 0,1; 0,25; Deutsche Fassung
- ↑ DIN 44050:1982-09 Schichtfestwiderstände; Begriffe, Anforderungen, Meß- und Prüfverfahren; Hinweise für die Anwendung
- ↑ DIN 44051:1983-09 Kohleschicht-Festwiderstände, lackiert, für allgemeine Anforderungen, mit axialen Drahtanschlüssen, Anwendungsklasse FKF (FHF)
- ↑ DIN 44052:1983-09 Kohleschicht-Festwiderstände, lackiert, für erhöhte Anforderungen, mit axialen Drahtanschlüssen, Anwendungsklasse FKF
- ↑ DIN 44053:1976-04 Kohleschicht-Festwiderstände, lackiert; Präzisionswiderstände mit axialen Drahtanschlüssen, Anwendungsklasse GPG
- ↑ DIN 44055:1976-04 Kohleschicht-Festwiderstände, lackiert, für erhöhte Anforderungen, mit kleiner Drift und kleinem Ausfallquotienten, mit axialen Drahtanschlüssen, Anwendungsklasse FKF
- ↑ DIN 44054:1983-09 Kohlegemischschicht-Festwiderstände, isoliert, für allgemeine Anforderungen, mit axialen Drahtanschlüssen, Anwendungsklasse FKF
- ↑ DIN 44061:1983-09 Metallschicht-Festwiderstände, lackiert, für erhöhte Anforderungen, mit kleinem Temperaturkoeffizienten, mit axialen Drahtanschlüssen, Anwendungsklasse EKF
- ↑ DIN 44062:1985-09 Metallschicht-Festwiderstände, lackiert, für erhöhte Anforderungen, auf Träger hoher Wärmeleitfähigkeit, mit axialen Drahtanschlüssen
- ↑ DIN 44063:1976-04 Metalloxidschicht-Festwiderstände, isoliert, für erhöhte Anforderungen, mit axialen Drahtanschlüssen, Anwendungsklasse FHF u. FZF
- ↑ DIN 44064:1983-09 Metallglasurschicht-Festwiderstände, isoliert, für erhöhte Anforderungen mit axialen Drahtanschlüssen; Anwendungsklasse FHF
- ↑ http://www.aecouncil.com/Documents/AEC_Q200_Rev_E_Base_Document.pdf