Diskussion:Fotolithografie (Halbleitertechnik)

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Einleitung

Ich verstehe die Einleitung nicht ganz, insbesondere den letzten Satz nicht. Ensteht auf diese Art tatsächlich die Fotomaske oder eher doch die Strukturen die mithilfe der Maske erzeugt werden? So habe ich es jedenfalls aus dem Artikel Fotomaske verstanden. Vielleicht komme ich auch nur mit den Begriffen durcheinander, meint Fotomaske und lithografische Maske unterschiedliche Dinge? --141.64.161.160 13:22, 14. Aug. 2015 (CEST)

Positivlack/Negativlack?

Hallo, kurze Frage zum Positivlack und Negativlack.

Im Abschnitt "Prozessbeschreibung" --> "Grundprinzip" ist eine Grafik hinzugefügt, in der der belichtete Teil des Fotolacks entfernt wird. Darunter wird in diesem Fall von einem Positivlack geredet.

Im Text nebenan steht nun jedoch, dass Positivlack für das Entfernen der unbelichteten/unveränderten Bereiche zuständig ist.

Verstehe ich das falsch oder widerspricht sich das? Müsste es laut Text dann nicht ein Negativlack in der Grafik sein? (nicht signierter Beitrag von 95.90.203.188 (Diskussion) 11:51, 1. Feb. 2016 (CET))

Das Bild ist korrekt, bei Positivlack steigt die Löslichkeit mit der Belichtung an und diese Bereiche werden dann entwickelt/entfernt. Die Zuordnung war vertauscht. Danke für den Hinweis. --Cepheiden (Diskussion) 21:27, 1. Feb. 2016 (CET)