Zirconiumdisilicid
| Kristallstruktur | ||||||||||||||||
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| _ Zr _ Si | ||||||||||||||||
| Allgemeines | ||||||||||||||||
| Name | Zirconiumdisilicid | |||||||||||||||
| Andere Namen |
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| Verhältnisformel | ZrSi2 | |||||||||||||||
| Kurzbeschreibung |
grauer geruchloser Feststoff[1] | |||||||||||||||
| Externe Identifikatoren/Datenbanken | ||||||||||||||||
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| Eigenschaften | ||||||||||||||||
| Molare Masse | 147,39 g·mol−1 | |||||||||||||||
| Aggregatzustand |
fest[1] | |||||||||||||||
| Dichte |
4,88 g·cm−3[1] | |||||||||||||||
| Schmelzpunkt | ||||||||||||||||
| Sicherheitshinweise | ||||||||||||||||
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| Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet. Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen (0 °C, 1000 hPa). | ||||||||||||||||
Zirconiumdisilicid ist eine anorganische chemische Verbindung des Zirconiums aus der Gruppe der Silicide.
Gewinnung und Darstellung
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Zirconiumdisilicid kann durch Reaktion von Zirconium oder Zirconiumhydrid mit Silicium gewonnen werden.[2]
Ebenfalls möglich ist die Darstellung durch Umsetzung von Zirconium mit Siliciumtetrachlorid.[2]
Es bildet sich auch bei der Reaktion von Zirconiumdioxid mit Silicium.[3]
Eigenschaften
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Zirconiumdisilicid ist ein metallisch glänzender, grauer und geruchloser[1] kristalliner Feststoff mit guter thermischer und elektrischer Leitfähigkeit. Er besitzt orthorhombische Kristallstruktur mit der Raumgruppe Cmcm (Raumgruppen-Nr. 63). Die Kristallstruktur enthält zwei kristallographisch verschiedene Siliciumatome. Eines bildet Schichten aus Si4-Quadraten, das andere Zickzackketten. Siliciumdisilicid ist unlöslich in Wasser[1] und Mineralsäuren mit Ausnahme von Flusssäure. Es verbrennt beim Glühen an Luft. Zu beachten ist, dass neben Zirconiumdisilicid weitere Zirconiumsilicide bekannt sind. So Zr3Si mit einer tetragonalen Kristallstruktur isotyp zu der von Ti3P, Zr2Si mit einem Schmelzpunkt von 2110 °C, einer Dichte von 6,22 und tetragonaler Kristallstruktur isotyp zu der von CuAl2, Zr3Si2 mit einer Schmelztemperatur von 2225 °C und einer tetragonalen Kristallstruktur isotyp zu der von U3Si2, Zr5Si4 mit einer tetragonalen Kristallstruktur und Zirconiummonosilicid ZrSi mit einer Schmelztemperatur von 2095 °C und zwei orthorhombische Formen isotyp zu denen von Eisenborid oder Chromborid.[2]
Verwendung
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Zirconiumdisilicid wird in der Halbleiterindustrie als Sputtermaterial zur Erzeugung von widerstandsfähigen Schichten in elektronischen Schaltkreisen verwendet.[4]
Einzelnachweise
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]- ↑ a b c d e f Datenblatt Zirconium silicide, 99.5% (metals basis excluding Hf), Hf 2-4% bei Alfa Aesar, abgerufen am 16. Juni 2013 (Seite nicht mehr abrufbar).
- ↑ a b c d Georg Brauer (Hrsg.), unter Mitarbeit von Marianne Baudler u. a.: Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie. 3., umgearbeitete Auflage. Band II, Ferdinand Enke, Stuttgart 1978, ISBN 3-432-87813-3, S. 1389.
- ↑ Satischandra B. Ogale: Thin Films and Heterostructures for Oxide Electronics. Springer, 2005, ISBN 0-387-25802-7, S. 38 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
- ↑ Dale L. Perry: Handbook of Inorganic Compounds, Second Edition. Taylor & Francis US, 2011, ISBN 1-4398-1462-7, S. 475 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).